科研院所PVD实验设备_科研院所实验设备_产品展示

科研院所PVD实验设备

设备简介

专为科研院所设计开发的多功能PVD镀膜设备，可选配阴极电弧、磁控溅射、离子源、电子枪蒸发、灯丝、偏压等多种镀膜技术，结合智能挡板和独立公自转转架，应用灵活，非常适用于科研人员灵活的开发各种涂层。

设备参数

真空室尺寸	Ф400×H450	Ф800×H800	Ф1000×H1200
真空室结构	立式前开门结构、后置抽气系统
电源类型	脉冲偏压电源、直流磁控电源、中频磁电源；多弧直流电源；离子源电源（可根据客户要求实配不同电源）
真空技术指标	极限压强：5.0×10-5Pa；抽速：从大气抽至5.0X10-4Pa，30分钟；压升率：≤0.5Pa/h
磁控靶类型	阴极电弧，平面磁控靶，圆柱形磁控靶，非平衡磁控靶（可根据客户要求实配）
蒸发类型	电子束蒸发源、电阻蒸发源（可根据客户要求实配）
控制方式	PLC+工控机+触摸屏操作
备注	具体配置、大小均可根据客户的要求进行设计