设备简介

MOC磁控溅射光学镀膜机是一种双夹具门单腔体大型磁控溅射光学镀膜机，可镀面积10.65平方米，每个门配有一个工件架，双门交替工作。

设备采用单质靶材氩气环境下溅射成膜后再在ICP射频等离子体区化合成金属化合物膜的成膜方式，能够在最大程度上加快介质膜的沉淀速度，大幅提升镀膜生产效率。

设备配备铌、硅等靶材，可在膜片、复合板、玻璃等2D和3D素材上镀制Nb205、SiO2、Si3N4等膜层，完成AR、超硬AR、颜色膜等光学类膜系的镀制，并且AF膜可同轮完成。

设备可用于手机后盖彩色及渐变色装饰膜、车载显示屏、手机摄像头盖板、笔电、工控等显示屏减反射膜大规模镀膜生产，也适用于传统精密光学滤光片、VR、AR等现代智能电子产品光学元件的镀膜。  

可镀面积（公转）和生产节拍