设备简介
MIC阴极电弧离子涂层设备是我公司经过多年研发与完善,并有较高市场占用率的一款镀膜设备。设备采用新型大面积阴极电弧技术、IET刻蚀、偏压等镀膜技术,配备可移动式工件转架,适用于在各种刀具和模具以及零部件表面沉积高性能的耐磨、防腐、抗氧化等硬质涂层。
设备特点
- 大面积弧源技术具有弧斑移动速度快、离化率高、等离子体能量大
- IET刻蚀辅助技术提高结合力、涂层致密细腻
- 沉积速率快、靶材利用率高
- 单层和多层复合
- 合理的结构设计、成熟的工艺参数
- 稳定的控制系统、远程操作与监控
设备参数
设备型号 |
MIC-900 |
MIC-1200 |
MIC-1800 |
MIC-2200 |
有效涂层区域 |
∅700×600 |
∅700×900 |
∅700×1500 |
∅700×1800 |
可选配置 |
大面积阴极电弧、IET刻蚀、偏压 |
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涂层工艺时间 |
4-6h |
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涂层类别 |
TiN、CrN、TiCN、AlTiN、AlCrN、AlTiSiN、AlCrSiN等 |
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系统最高温度 |
550℃ |
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沉积温度 |
<500℃ |
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最大载荷重量 |
1000Kg/2000Kg |
涂层性能参数
涂层名称 |
涂层厚度(μm) |
涂层硬度 (HV) |
工作温度 (℃) |
摩擦系数 |
涂层颜色 |
TiN |
2-6 |
2500 |
600 |
0.2 |
金黄色 |
CrN |
2-10 |
2500 |
600 |
0.2 |
银灰色 |
TiCN |
2-4 |
2800 |
500 |
0.2 |
灰黑色 |
AlTiN |
2-5 |
3300 |
900 |
0.5 |
蓝黑色 |
TiAlN |
2-6 |
3300 |
900 |
0.4 |
紫黑色 |
AlCrN |
2-5 |
3200 |
1000 |
0.35 |
黑灰色 |
AlTiSiN |
2-4 |
3300 |
1100 |
0.3 |
土黄色 |